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● 功耗测试
45nm工艺在解决了频率提升困难之余,最大的帮助莫过于更好的控制功耗。Intel采用了突破式的High-k + Metal Gate介质,全新的材料不仅成为了行业内重大的技术突破,同时也带来了更好的功耗控制。
功耗测试对比图
从柱状图中我们可以清晰的看出,无论是空载状态还是满载状态,Intel的处理器较对手相比都有着非常抢眼的优势。更低的功耗不仅为用户长时间的使用提供了更高的性价比,同时也为产品本身带来了更低的发热量,这对于追求节能和静音的用户来说无疑是有很大的吸引力。
另外,我们对比X3 720发现,其功耗相对较四核的羿龙II 920更高,据分析可能是因为三核720只是在四核基础上进行了一颗核心的屏蔽,实际上在运行中仍然通电从而产生功耗所致。