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    从8年酷睿进化史看摩尔定律发展之殇

      [  中关村在线 原创  ]   作者:赵华铭   |  责编:李诺

      更先进的半导体制程工艺究竟路在何方?以目前的技术来看,采用更先进的光刻技术以及寻求更先进的材料都是正在进行或处在研发中的方向,其中,更先进的光刻技术将是未来几年内可以预见的解决方案之一。

    从8年酷睿进化史看摩尔定律发展之殇
    图片中间就是光刻环节

      光刻是处理器生产过程中的核心环节,它往往决定着芯片上晶体管的大小,而光刻机则是进行光刻处理的唯一工具,其重要性不言而喻。目前的光刻工艺多采用193nm波长的DUV深紫外光光刻机,而想要更先进的制程则需要借助拥有更短波长的EUV极紫外光光刻机,这是因为更短的波长可以让光刻机拥有更高的分辨率,进而可以在晶圆上印制更小的晶体管。

    从8年酷睿进化史看摩尔定律发展之殇
    ASML生产的光刻机

      拥有生产EUV光刻机的企业屈指可数,准确的说,全球仅有荷兰的ASML一家公司具有生产EUV光刻机的能力。此前,英特尔、台积电、三星都已经采购ASML的EUV光刻机用于7nm及以下工艺的研发,相信在不久的未来我们会看到采用EUV光刻技术研制的处理器。

    从8年酷睿进化史看摩尔定律发展之殇
    美国劳伦斯伯克利国家实验室打造的1nm晶体管

      至于寻求更先进的材料,目前也只是停留在实验室阶段,比如在2016年美国劳伦斯伯克利国家实验室就用碳纳米管和二硫化钼两种新材料成功实现了1nm的晶体管,这对推进半导体制程工艺具有深远意义,但是距离大规模量产还有很长一段路要走。

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